GNX200B / GNX300B
Die GNX-Serie von Okamoto ist eine hochpräzise doppelseitige Läpp- und Polierplattform, die für die effiziente, konsistente Bearbeitung von Halbleiter- und hochentwickelten Materialkomponenten entwickelt wurde.
Die Okamoto GNX-Serie wurde für anspruchsvolle doppelseitige Läpp- und Polieranwendungen entwickelt und bietet eine hohe Maßgenauigkeit, einen stabilen Durchsatz und eine wiederholbare Oberflächenqualität. Die GNX-Maschinen wurden für Halbleiterwafer und moderne Materialien entwickelt und zeichnen sich durch eine robuste Konstruktion, eine präzise Spindelsteuerung und eine optimierte Prozessstabilität aus, um einen gleichmäßigen Materialabtrag und eine überragende Ebenheit über einen großen Bereich von Teilegrößen zu gewährleisten. Dank ihrer automatisierungsfähigen Architektur und zuverlässigen Leistung eignen sie sich sowohl für die Großserienproduktion als auch für die Präzisionsfertigung.
Technische Daten
| Maximaler Bearbeitungsdurchmesser (mm) | 200 |
| Spindeldrehzahlbereich (U/min) | 0-3600 |
| Leistung des Spindelantriebsmotors (kW) | 2.2 / 4 |
| Bereich der Vorschubgeschwindigkeit der Hauptwelle (µm/min) | 1-999 |
| Anzahl der Spindeln (Stück) | 2 |
| Drehzahlbereich der Arbeitsscheibe (U/min) | 1-300 |
| Größe der Schleifscheibe (mm) | 250 |
| Gewicht der Ausrüstung (kg) | 3,900 |
