GNX200B / GNX300B
La serie Okamoto GNX è una piattaforma di lappatura e lucidatura a doppia faccia ad alta precisione, progettata per una lavorazione efficiente e costante di componenti di semiconduttori e materiali avanzati.
La serie Okamoto GNX è stata progettata per applicazioni di lappatura e lucidatura su due lati che richiedono un'elevata precisione dimensionale, una produttività stabile e una qualità superficiale ripetibile. Progettate per wafer di semiconduttori e materiali avanzati, le macchine GNX integrano una struttura rigida, un controllo preciso del mandrino e una stabilità di processo ottimizzata per garantire un'asportazione uniforme e una planarità superiore in un'ampia gamma di dimensioni dei pezzi. L'architettura pronta per l'automazione e le prestazioni affidabili le rendono adatte sia alla produzione di grandi volumi che agli ambienti di produzione di precisione.
Specifiche tecniche
| Diametro massimo lavorabile (mm) | 200 |
| Gamma di velocità del mandrino (giri/min) | 0-3600 |
| Potenza del motore di azionamento del mandrino (kW) | 2.2 / 4 |
| Gamma di velocità di avanzamento dell'albero principale (µm/min) | 1-999 |
| Numero di mandrini (pz) | 2 |
| Gamma di velocità del disco di lavoro (giri/min) | 1-300 |
| Dimensione della mola (mm) | 250 |
| Peso dell'attrezzatura (kg) | 3,900 |
